Импульсно-лазерное осаждение

 


Импульсно лазерное осаждение (PLD) - технология по созданию тонких пленок (с контролируемыми толщинами от 1 ангстерма до сотен нанометров) посредством распыления материала мишени мощным сфокусированным лазерным импульсом внутри вакуумной камеры. Рост тонких пленок происходит в камере (вакуум до 10-11 Торр) при помощи двух Nd:YAG лазеров (Nd:YAG лазер LS-2137U) и (Nd:YAG лазер LS-2136).

 

 

Параметры лазеров установки PLD

Параметры

Максимальная энергия импульса, мДж

Длительность импульса, нс

Максимальная частота повторения импульсов, Гц

1-я гармоника (1064 нм),

2-я гармоника (532 нм)

3-я гармоника (355 нм)

4-я гармоника (266 нм)

Лазер 1

700

350

130

70

~20

10

Лазер 2

150

80

-

-

~20

50

 

 Технические характеристики установки:

  • для лазерной абляции используется твердотельные Nd:Yag лазеры, работающие на 4 гармониках: 266 нм, 355 нм, 532 нм, 1064 нм.
  • осаждение при различных температурах до 800 градусов Цельсия.
  • осаждение в атмосфере различных рабочих газов или их смеси
  • осаждение в вакууме до 10-11Torr
  • прецизионный контроль толщины пленки с точностью до 0,01 ангстрема
  • со-осаждение материалов и получение многокомпонентных структур посредством использования дополнительного лазера или магнетронного распыления (MS).