Вакуумная установка магнетронного напыления большой площади является универсальной напылительной установкой с возможностью частичной модификации и изменения функционала под требования пользователя. На данном типе оборудования возможна реализация магнетронного распыления с одного магнетрона. Существует также набор опций, позволяющий расширить возможности базовой комплектации: установка источника ионов для чистки и активации поверхности, различные варианты оснастки под образцы (в том числе и перемоточный механизм). 

Назначение: 

• нанесение тонких металлизированных покрытий на ткани с использованием высокочастотного источника магнетронного распыления; 
• разработка и оптимизация процессов формирования тонкопленочных наноструктурированных покрытий. 

Кроме того, технология магнетронного распыления безопасна для человека и окружающей среды, и является естественным заменителем экологически вредных химических и электрохимических методов нанесения покрытий; при этом она обеспечивает при сопоставимой производительности и себестоимости более высокое качество покрытий и исключительно широкую номенклатуру напыляемых материалов, соединений и композитов, которые не могут быть получены химическими методами.

Технические характеристики:

• Размеры камеры ДхШхВ не менее 1000х1000х600мм; 
• Площадь покрытия составляет 4000 см2; 
• Рабочее давление в камере не менее 5 х 10-5 Па; 
• Вакуумная система откачки с турбомолекулярным насосом, производительностью не менее 1000 л/с;
• Скорость осаждения материала достигает 30 Å/с;
• Система прогрева рабочей камеры для высоковакуумных применений до 1000 С.
• Формирование на подложках тонкопленочных покрытий: серебра (Ag) со скоростью не менее 200 нм/мин; оксида кремния (SiO2) со скоростью не менее 10 нм/мин, при этом, температура подложки во время напыления не превышает 50 oC. 
• Размеры загружаемых образцов до 900× 300 мм. 
• PLC контроллер.